TaC-gecoate wafer susceptor

Semicorex TaC Coated Wafer Susceptor is een cruciaal onderdeel dat wordt gebruikt in Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) ovens voor epitaxiale (epi) verwerking van halfgeleiders. Deze gespecialiseerde ronde susceptor is gemaakt van hoogwaardig grafietmateriaal en is voorzien van een unieke Tantalum Carbide (TaC) coating.

Het primaire doel van de TaC-coating is het verbeteren van de prestaties en duurzaamheid van de TaC Coated Wafer Susceptor tijdens de veeleisende omstandigheden van halfgeleiderfabricageprocessen. Tantaalcarbide staat bekend om zijn uitzonderlijke hardheid, hoog smeltpunt en weerstand tegen slijtage en corrosie. Deze eigenschappen maken de TaC Coated Wafer Susceptor een ideale keuze voor het beschermen van de onderliggende grafietsusceptor tegen chemische reacties en fysieke spanningen die optreden in de MOCVD-oven.

TaC Coated Wafer Susceptor speelt een cruciale rol in de epitaxiale groei van halfgeleidermaterialen door de afzetting van dunne films op wafers te vergemakkelijken. Het vermogen om hoge temperaturen en agressieve chemische omgevingen te weerstaan ​​is cruciaal voor het bereiken van een nauwkeurige en betrouwbare productie van halfgeleiderapparaten.

De TaC Coated Wafer Susceptor, met zijn grafietkern en tantaalcarbidecoating, zorgt voor een consistente en uniforme warmteverdeling, wat bijdraagt ​​aan de reproduceerbaarheid en kwaliteit van halfgeleiderlagen die tijdens het MOCVD-proces zijn gegroeid. Deze geavanceerde materiaalcombinatie maakt het een betrouwbare en duurzame oplossing voor de productie van halfgeleiders, die voldoet aan de strenge eisen van de moderne productie van elektronische apparaten.