Elektrostatische Chuck E-Chuck

Semicorex Elektrostatische Chuck E-Chuck werkt volgens de principes van elektrostatische aantrekking en biedt betrouwbare en nauwkeurige waferretentie zonder de noodzaak van mechanische klemmen of vacuümzuiging, vooral gebruikt bij etsen, ionenimplementatie.

antatie, PVD, CVD, enz. halfgeleiderverwerking. Dankzij de aanpasbare afmetingen is hij aanpasbaar aan een breed scala aan toepassingen, waardoor het een ideale keuze is voor bedrijven die op zoek zijn naar flexibiliteit en efficiëntie in de fabricageprocessen van halfgeleiders.

De fundamentele technologie achter de J-R-type elektrostatische Chuck E-Chuck is het vermogen om een ​​elektrostatische kracht te genereren tussen de wafer en het oppervlak van de chuck. Deze kracht wordt gecreëerd door een hoge spanning aan te leggen op de elektroden die in de klem zijn ingebed, waardoor ladingen op zowel de wafer als de klem worden geïnduceerd, waardoor een sterke elektrostatische binding ontstaat. Dit mechanisme houdt de wafel niet alleen veilig op zijn plaats, maar minimaliseert ook het fysieke contact tussen de wafel en de spankop, waardoor potentiële vervuiling of mechanische spanning die gevoelige halfgeleidermaterialen zou kunnen beschadigen, wordt verminderd.

Semicorex kan de maatwerkproducten produceren, van 200 mm tot 300 mm of zelfs groter, afhankelijk van de wensen van de klanten. Door deze aanpasbare opties aan te bieden, biedt het J-R-type ESC maximale flexibiliteit voor een reeks halfgeleiderprocessen, waaronder plasma-etsen, chemische dampdepositie (CVD), fysieke dampdepositie (PVD) en ionenimplantatie.

Qua materialen is de Electrostatic Chuck E-Chuck gemaakt van hoogwaardige keramische materialen, zoals aluminiumoxide (Al2O3) of aluminiumnitride (AlN), die bekend staan ​​om hun uitstekende diëlektrische eigenschappen, mechanische sterkte en thermische stabiliteit. Deze keramiek geeft de boorkop de nodige duurzaamheid om bestand te zijn tegen de zware omstandigheden bij de productie van halfgeleiders, zoals hoge temperaturen, corrosieve omgevingen en blootstelling aan plasma. Bovendien is het keramische oppervlak gepolijst tot een hoge mate van gladheid om een ​​uniform contact met de wafel te garanderen, waardoor de elektrostatische kracht wordt vergroot en de algehele procesprestaties worden verbeterd.

De elektrostatische Chuck E-Chuck is ook ontworpen om de thermische uitdagingen aan te kunnen die vaak voorkomen bij de fabricage van halfgeleiders. Temperatuurbeheer is van cruciaal belang tijdens processen zoals etsen of depositie, waarbij de temperatuur van de wafer snel kan fluctueren. De keramische materialen die in de spankop worden gebruikt, zorgen voor een uitstekende thermische geleidbaarheid, waardoor de warmte efficiënt wordt afgevoerd en een stabiele wafeltemperatuur wordt gehandhaafd.

De Electrostatic Chuck E-Chuck is ontworpen met de nadruk op het minimaliseren van deeltjesverontreiniging, wat van cruciaal belang is bij de productie van halfgeleiders, waar zelfs microscopisch kleine deeltjes tot defecten in het eindproduct kunnen leiden. Het gladde keramische oppervlak van de spankop verkleint de kans op adhesie van deeltjes, en het verminderde fysieke contact tussen de wafer en de spankop, dankzij het elektrostatische vasthoudmechanisme, verlaagt het risico op besmetting verder. Sommige modellen van het J-R-type ESC bevatten ook geavanceerde oppervlaktecoatings of behandelingen die deeltjes afstoten en corrosie weerstaan, waardoor de levensduur en betrouwbaarheid van de boorkop in cleanroomomgevingen wordt vergroot.

Samenvattend is de elektrostatische Chuck E-Chuck van het J-R-type een veelzijdige en betrouwbare oplossing voor het vasthouden van wafers die uitzonderlijke prestaties biedt in een breed scala aan halfgeleiderproductieprocessen. Het aanpasbare ontwerp, de geavanceerde elektrostatische houdtechnologie en de robuuste materiaaleigenschappen maken het een ideale keuze voor bedrijven die de verwerking van wafers willen optimaliseren en tegelijkertijd de hoogste normen op het gebied van reinheid en precisie willen behouden. Of het nu wordt gebruikt bij plasma-etsen, depositie of ionenimplantatie, het J-R-type ESC biedt de flexibiliteit, duurzaamheid en efficiëntie die nodig is om te voldoen aan de veeleisende behoeften van de hedendaagse halfgeleiderindustrie. Met zijn vermogen om zowel in de Coulomb- als de Johnsen-Rahbek-modus te werken, hoge temperaturen aan te kunnen en deeltjesverontreiniging te weerstaan, vormt de ESC van het JR-type een cruciaal onderdeel in het nastreven van hogere opbrengsten en verbeterde procesresultaten.