ICP-plasma-etsbak

Onze ICP-plasma-etsbak is gecoat met siliciumcarbide volgens de CVD-methode, wat de ideale oplossing is voor waferhanteringsprocessen waarbij hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging nodig zijn. De dragers van Semicorex zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen zorgt en vervuiling of verspreiding van onzuiverheden voorkomt.
Bij Semicorex richten we ons op het leveren van hoogwaardige, kosteneffectieve producten aan onze klanten. Onze ICP-plasma-etsbak heeft een prijsvoordeel en wordt naar vele Europese en Amerikaanse markten geëxporteerd. Wij streven ernaar uw langetermijnpartner te zijn en producten van consistente kwaliteit en een uitzonderlijke klantenservice te leveren.
Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze ICP-plasma-etstray.

Parameters van ICP-plasma-etsbak

Kenmerken van de ICP-plasma-etsbak

- Voorkom loslaten en zorg voor een coating op alle oppervlakken

Oxidatieweerstand bij hoge temperaturen: Stabiel bij hoge temperaturen tot 1600°C

Hoge zuiverheid: gemaakt door CVD chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur.

Corrosiebestendigheid: hoge hardheid, dicht oppervlak en fijne deeltjes.

Corrosiebestendigheid: zuur, alkali, zout en organische reagentia.

- Bereik het beste laminaire gasstroompatroon

- Garandeer de gelijkmatigheid van het thermische profiel

- Voorkom elke besmetting of verspreiding van onzuiverheden