Momenteel gebruiken de meeste fabrikanten van SiC-substraten een nieuw thermisch veldprocesontwerp voor smeltkroezen met poreuze grafietcilinders: het plaatsen van zeer zuivere SiC-deeltjesgrondstoffen tussen de grafietkroeswand en de poreuze grafietcilinder, terwijl de gehele smeltkroes wordt verdi......
Lees verderChemical Vapour Deposition (CVD) verwijst naar een procestechnologie waarbij meerdere gasvormige reactanten bij verschillende partiële drukken een chemische reactie ondergaan onder specifieke temperatuur- en drukomstandigheden. De resulterende vaste substantie zet zich af op het oppervlak van het su......
Lees verderIn de moderne elektronica, opto-elektronica, micro-elektronica en informatietechnologie zijn halfgeleidersubstraten en epitaxiale technologieën onmisbaar. Ze bieden een solide basis voor de productie van hoogwaardige en zeer betrouwbare halfgeleiderapparaten. Naarmate de technologie zich blijft ontw......
Lees verderOnlangs heeft ons bedrijf aangekondigd dat het bedrijf met succes een 6-inch galliumoxide-monokristal heeft ontwikkeld met behulp van de gietmethode, waarmee het het eerste binnenlandse geïndustrialiseerde bedrijf is geworden dat de 6-inch galliumoxide-monokristalsubstraatvoorbereidingstechnologie o......
Lees verderHet proces van monokristallijne siliciumgroei vindt voornamelijk plaats binnen een thermisch veld, waar de kwaliteit van de thermische omgeving een aanzienlijke invloed heeft op de kristalkwaliteit en groei-efficiëntie. Het ontwerp van het thermische veld speelt een cruciale rol bij het vormgeven va......
Lees verder