- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
bedrijfsnieuws
Plasmaprocessen bij CVD-operaties
Chemical Vapour Deposition (CVD) verwijst naar een procestechnologie waarbij meerdere gasvormige reactanten bij verschillende partiële drukken een chemische reactie ondergaan onder specifieke temperatuur- en drukomstandigheden. De resulterende vaste substantie zet zich af op het oppervlak van het su......
Lees verder
Silicium epitaxiale lagen en substraten in de productie van halfgeleiders
In de moderne elektronica, opto-elektronica, micro-elektronica en informatietechnologie zijn halfgeleidersubstraten en epitaxiale technologieën onmisbaar. Ze bieden een solide basis voor de productie van hoogwaardige en zeer betrouwbare halfgeleiderapparaten. Naarmate de technologie zich blijft ontw......
Lees verder
Het eerste industrialisatiebedrijf voor galliumoxidesubstraten van 6 inch
Onlangs heeft ons bedrijf aangekondigd dat het bedrijf met succes een 6-inch galliumoxide-monokristal heeft ontwikkeld met behulp van de gietmethode, waarmee het het eerste binnenlandse geïndustrialiseerde bedrijf is geworden dat de 6-inch galliumoxide-monokristalsubstraatvoorbereidingstechnologie o......
Lees verder
Isolatiemateriaal voor thermische velden
Het proces van monokristallijne siliciumgroei vindt voornamelijk plaats binnen een thermisch veld, waar de kwaliteit van de thermische omgeving een aanzienlijke invloed heeft op de kristalkwaliteit en groei-efficiëntie. Het ontwerp van het thermische veld speelt een cruciale rol bij het vormgeven va......
Lees verder
