De Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor voor Wafer Epitaxial is de perfecte keuze voor toepassingen met monokristallijne groei, dankzij het uitzonderlijk vlakke oppervlak en de hoogwaardige SiC-coating. Het hoge smeltpunt, de oxidatieweerstand en de corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in omgevingen met hoge temperaturen en corrosie.
De Semicorex SiC gecoate epitaxiale reactorvat is een grafietproduct van topkwaliteit gecoat met zeer zuiver SiC. De uitstekende dichtheid en thermische geleidbaarheid maken het een ideale keuze voor gebruik in LPE-processen, waardoor een uitzonderlijke warmteverdeling en bescherming wordt geboden in corrosieve omgevingen en omgevingen met hoge temperaturen.
De Semicorex Carbide-Coated Reactor Barrel Susceptor is een grafietproduct van topkwaliteit, gecoat met zeer zuiver SiC, speciaal ontworpen voor LPE-processen. Met uitstekende hitte- en corrosieweerstand is dit product perfect voor gebruik in halfgeleiderproductietoepassingen.
De SiC-gecoate Susceptor Barrel voor epitaxiale reactorkamer van Semicorex is een zeer betrouwbare oplossing voor halfgeleiderproductieprocessen, met superieure warmteverdeling en thermische geleidbaarheidseigenschappen. Het is ook zeer goed bestand tegen corrosie, oxidatie en hoge temperaturen.
Semicorex Silicon Carbide Coated Barrel Susceptor is een hoogwaardig grafietproduct gecoat met zeer zuiver SiC en biedt uitzonderlijke hitte- en corrosieweerstand. Het is specifiek ontworpen voor LPE-toepassingen in de halfgeleiderindustrie.
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies.
Privacybeleid