SiC Susceptor voor ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor voor ICP Etch wordt vervaardigd met de nadruk op het handhaven van hoge normen van kwaliteit en consistentie. De robuuste productieprocessen die worden gebruikt om deze susceptors te maken, zorgen ervoor dat elke batch aan strenge prestatiecriteria voldoet en betrouwbare en consistente resultaten oplevert bij het etsen van halfgeleiders. Bovendien is Semicorex uitgerust om snelle leveringsschema's aan te bieden, wat cruciaal is om gelijke tred te houden met de snelle doorlooptijden van de halfgeleiderindustrie, en ervoor te zorgen dat aan de productietijdlijnen wordt voldaan zonder concessies te doen aan de kwaliteit. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan het produceren en leveren van hoogwaardige SiC Susceptor voor ICP Etch die kwaliteit combineert met kostenefficiëntie.**

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex SiC Susceptor voor ICP Etch staat bekend om zijn uitstekende thermische geleidbaarheid, die een snelle en uniforme warmteverdeling over het oppervlak mogelijk maakt. Deze functie is cruciaal voor het handhaven van een consistente temperatuur tijdens het etsproces, waardoor een hoge nauwkeurigheid bij de patroonoverdracht wordt gegarandeerd. Bovendien minimaliseert de lage thermische uitzettingscoëfficiënt van SiC de maatveranderingen onder variërende temperaturen, waardoor de structurele integriteit behouden blijft en een nauwkeurige en uniforme materiaalverwijdering wordt ondersteund.

Een van de opvallende eigenschappen van SiC Susceptor voor ICP Etch is hun weerstand tegen plasma-impact. Deze weerstand zorgt ervoor dat de susceptor niet degradeert of erodeert onder de zware omstandigheden van plasmabombardement, wat gebruikelijk is bij deze etsprocessen. Deze duurzaamheid vergroot de betrouwbaarheid van het etsproces en draagt bij aan de productie van schone, goed gedefinieerde etspatronen met minimale defectiviteit.

SiC Susceptor voor ICP Etch is inherent bestand tegen corrosie door sterke zuren en alkaliën, wat een essentiële eigenschap is voor materialen die worden gebruikt in ICP-etsomgevingen. Deze chemische resistentie zorgt ervoor dat SiC Susceptor for ICP Etch zijn fysieke en mechanische eigenschappen in de loop van de tijd behoudt, zelfs bij blootstelling aan agressieve chemische reagentia. Deze duurzaamheid vermindert de behoefte aan frequente vervanging en onderhoud, waardoor de operationele kosten worden verlaagd en de uptime van halfgeleiderfabricagefaciliteiten wordt vergroot.

Semicorex SiC Susceptor voor ICP Etch kan nauwkeurig worden ontworpen om aan specifieke maatvereisten te voldoen, wat een kritische factor is bij de productie van halfgeleiders, waar maatwerk vaak nodig is om tegemoet te komen aan verschillende wafergroottes en verwerkingsspecificaties. Dit aanpassingsvermogen zorgt voor een betere integratie met bestaande apparatuur en proceslijnen, waardoor de algehele efficiëntie en effectiviteit van het etsproces wordt geoptimaliseerd.