> Nieuws

Nieuws

Hoe het CMP-proces uit te voeren

Tijdens het productieproces van siliciumwafels moet de kristalstaaf, nadat deze in siliciumwafels is gesneden, worden gepolijst en gereinigd om een siliciumwafel met één kristal te verkrijgen, zoals een spiegel.

Lees verder

Wat is CMP-proces

Bij de productie van halfgeleiders wordt vlakheid op atomair niveau meestal gebruikt om de globale vlakheid van de wafer te beschrijven, met de eenheid nanometers (nm).

Lees verder

Wat zijn de voor- en nadelen van droog etsen en nat etsen?

Etsen is een essentieel proces bij de productie van halfgeleiders. Dit proces kan worden onderverdeeld in twee typen: droog etsen en nat etsen. Elke techniek heeft zijn eigen voordelen en beperkingen, waardoor het van cruciaal belang is om de verschillen ertussen te begrijpen. Dus, hoe kies je de be......

Lees verder

Kernmateriaal voor SiC-groei: Tantaalcarbidecoating

De huidige halfgeleiders van de derde generatie zijn voornamelijk gebaseerd op siliciumcarbide, waarbij substraten 47% van de apparaatkosten voor hun rekening nemen, en epitaxie 23%, in totaal ongeveer 70%, en het meest cruciale onderdeel vormen van de productie-industrie van SiC-apparaten.

Lees verder

Ionenimplantatie en diffusieproces

Ionenimplantatie is een methode voor het doteren van halfgeleiders en een van de belangrijkste processen bij de productie van halfgeleiders.

Lees verder

Uitdagingen van ionenimplantatietechnologie in SiC- en GaN-vermogensapparaten

Er wordt verwacht dat halfgeleiders met een brede bandafstand (WBG), zoals siliciumcarbide (SiC) en galliumnitride (GaN), een steeds belangrijkere rol zullen spelen in vermogenselektronische apparaten. Ze bieden verschillende voordelen ten opzichte van traditionele silicium (Si)-apparaten, waaronder......

Lees verder

<...10 11 12 13 14...30 >