 
            Dikke, zeer zuivere lagen siliciumcarbide (SiC), doorgaans groter dan 1 mm, zijn cruciale componenten in verschillende hoogwaardige toepassingen, waaronder de fabricage van halfgeleiders en ruimtevaarttechnologieën. Dit artikel gaat dieper in op het Chemical Vapour Deposition (CVD)-proces voor het p......
Lees verderEénkristallijn silicium en polykristallijn silicium hebben elk hun eigen unieke voordelen en toepasbare scenario's. Eénkristalsilicium is geschikt voor hoogwaardige elektronische producten en micro-elektronica vanwege de uitstekende elektrische en mechanische eigenschappen. Polykristallijn silicium ......
Lees verderBij het voorbereidingsproces van wafels zijn er twee kernschakels: de ene is de voorbereiding van het substraat en de andere is de implementatie van het epitaxiale proces. Het substraat, een wafel die zorgvuldig is gemaakt van halfgeleider-monokristalmateriaal, kan direct in het wafelproductieproces......
Lees verderChemical Vapour Deposition (CVD) is een veelzijdige dunnefilmdepositietechniek die op grote schaal wordt gebruikt in de halfgeleiderindustrie voor het vervaardigen van hoogwaardige, conforme dunne films op verschillende substraten. Dit proces omvat chemische reacties van gasvormige precursoren op ee......
Lees verderSiliciummateriaal is een vast materiaal met bepaalde elektrische halfgeleidereigenschappen en fysieke stabiliteit, en biedt substraatondersteuning voor het daaropvolgende productieproces van geïntegreerde schakelingen. Het is een belangrijk materiaal voor op silicium gebaseerde geïntegreerde schakel......
Lees verderDit artikel gaat in op het gebruik en het toekomstige traject van siliciumcarbide (SiC) boten in relatie tot kwartsboten binnen de halfgeleiderindustrie, waarbij de nadruk specifiek ligt op hun toepassingen in de productie van zonnecellen.
Lees verder