> Producten

Producten

Nieuwe Producten

View as

SiC-gecoate PSS-etsdrager

Waferdragers die worden gebruikt bij epixiale groei en verwerking van wafers moeten hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging doorstaan. Semicorex SiC gecoate PSS-etsdrager speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxieapparatuurtoepassingen. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Lees verder Stuur onderzoek

Susceptor met SiC-coating voor epitaxiale groei van LPE

Semicorex SiC gecoate vat susceptor voor LPE epitaxiale groei is een hoogwaardig product dat is ontworpen om consistente en betrouwbare prestaties te leveren gedurende een langere periode. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen op waferchips. De aanpasbaarheid en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.

Lees verder Stuur onderzoek

Vatontvanger Epi-systeem

Semicorex Barrel Susceptor Epi System is een hoogwaardig product dat superieure coatinghechting, hoge zuiverheid en oxidatieweerstand bij hoge temperaturen biedt. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van epixiale lagen op waferchips. De kosteneffectiviteit en aanpasbaarheid maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.

Lees verder Stuur onderzoek

Vloeistoffase-epitaxie (LPE) reactorsysteem

Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactorsysteem is een innovatief product dat uitstekende thermische prestaties, een gelijkmatig thermisch profiel en superieure coatinghechting biedt. De hoge zuiverheid, oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De aanpasbare opties en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.

Lees verder Stuur onderzoek

CVD epitaxiale afzetting in vatreactor

Semicorex CVD Epitaxiale Depositie In Barrel Reactor is een zeer duurzaam en betrouwbaar product voor het kweken van epixiale lagen op waferchips. De oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en de hoge zuiverheid maken het geschikt voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van besmetting maken het een ideale keuze voor hoogwaardige groei van epixiale lagen.

Lees verder Stuur onderzoek

Epitaxiale afzetting van silicium in vatreactor

Als u een hoogwaardige grafiet susceptor nodig heeft voor gebruik in halfgeleiderproductietoepassingen, is de Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor de ideale keuze. De zeer zuivere SiC-coating en uitzonderlijke thermische geleidbaarheid bieden superieure beschermings- en warmteverdelingseigenschappen, waardoor het de beste keuze is voor betrouwbare en consistente prestaties, zelfs in de meest uitdagende omgevingen.

Lees verder Stuur onderzoek

<...138 139 140 141 142...144 >