Producten

View as  
 
ICP Siliciumkoolstof gecoat grafiet

ICP Siliciumkoolstof gecoat grafiet

ICP Silicon Carbon Coated Graphite van Semicorex is de ideale keuze voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product beschikt over superieure hitte- en corrosieweerstand, gelijkmatige thermische uniformiteit en optimale laminaire gasstroompatronen.

Lees verderStuur onderzoek
ICP-plasma-etssysteem voor PSS-proces

ICP-plasma-etssysteem voor PSS-proces

Kies het ICP-plasma-etssysteem van Semicorex voor PSS-proces voor hoogwaardige epitaxie- en MOCVD-processen. Ons product is speciaal ontworpen voor deze processen en biedt superieure hitte- en corrosiebestendigheid. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.

Lees verderStuur onderzoek
ICP-plasma-etsplaat

ICP-plasma-etsplaat

De ICP-plasma-etsplaat van Semicorex biedt superieure hitte- en corrosieweerstand voor het hanteren van wafers en processen voor het afzetten van dunne films. Ons product is ontworpen om hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging te weerstaan, waardoor duurzaamheid en een lange levensduur worden gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.

Lees verderStuur onderzoek
Siliciumcarbide ICP-etsdrager

Siliciumcarbide ICP-etsdrager

Op zoek naar een betrouwbare waferdrager voor etsprocessen? Zoek niet verder dan de siliciumcarbide ICP-etsdrager van Semicorex. Ons product is ontworpen om hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging te weerstaan, waardoor duurzaamheid en een lange levensduur worden gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.

Lees verderStuur onderzoek
SiC-plaat voor ICP-etsproces

SiC-plaat voor ICP-etsproces

De SiC-plaat van Semicorex voor het ICP-etsproces is de perfecte oplossing voor hoge temperaturen en zware chemische verwerkingsvereisten bij het afzetten van dunne films en het hanteren van wafers. Ons product beschikt over superieure hittebestendigheid en gelijkmatige thermische uniformiteit, waardoor een consistente dikte en weerstand van de epilaag wordt gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak zorgt onze uiterst zuivere SiC-kristalcoating voor een optimale verwerking van onberispelijke wafels.

Lees verderStuur onderzoek
SiC-gecoate ICP-etsdrager

SiC-gecoate ICP-etsdrager

Semicorex SiC gecoate ICP-etsdrager speciaal ontworpen voor epitaxieapparatuur met hoge hitte- en corrosieweerstand in China. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Lees verderStuur onderzoek
X
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies. Privacybeleid
Afwijzen Accepteren