Producten

Als het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is de hoge temperatuur SiC-coating van Semicorex voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.

De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

De SiC-gecoate drager van Semicorex voor ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid biedt.

De met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor inductief gekoppeld plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

De ICP-etswafelhouder van Semicorex is de perfecte oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

De ICP Etching Carrier Plate van Semicorex is de perfecte oplossing voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product biedt superieure hitte- en corrosieweerstand, zelfs thermische uniformiteit en laminaire gasstroompatronen. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.