Producten

Semicorex SIC-deksel is een siliciumcarbidecomponent met hoge zuiverheid die is ontworpen voor extreme halfgeleiderverwerkingsomgevingen. Het kiezen van semicorex betekent zorgen voor ongeëvenaarde materiaalkwaliteit, precisie -engineering en aangepaste oplossingen die worden vertrouwd door toonaangevende fabrikanten van halfgeleiders wereldwijd.*

Semicorex SiC verticale boten zijn hoogwaardige waferdragers die zijn ontworpen voor gebruik in verticale ovenprocessen en die uitzonderlijke stabiliteit, netheid en duurzaamheid bieden. Kies Semicorex voor compromisloze kwaliteit, precisieproductie en bewezen betrouwbaarheid bij de thermische verwerking van halfgeleiders.*

Semicorex SIC-buizen zijn krachtige siliciumcarbide keramische componenten die zijn ontworpen voor halfgeleideroventoepassingen, die uitzonderlijke thermische, mechanische en chemische stabiliteit leveren in veeleisende procesomgevingen. Kies Semicorex voor precisie-ontwikkelde SiC-buizen die zorgen voor een consistente kwaliteit, langdurige levensduur van de services en maximale ovenefficiëntie.*

Semicorex SIC-spiegels zijn krachtige siliciumcarbide optische componenten die zijn ontworpen voor extreme precisie in toepassingen zoals optische scansystemen, lithografie en op de ruimte gebaseerde telescopen. Kies Semicorex voor onze geavanceerde productie -expertise, aanpasbare ontwerpen en uitzonderlijke oppervlakteafwerking die zorgen voor ongeëvenaarde stabiliteit, reflectiviteit en betrouwbaarheid in de meest veeleisende omgevingen.*

Semicorex SIC-oxidatiebuis is een krachtige component die wordt gebruikt in SIC-buisovens voor geavanceerde halfgeleider thermische verwerking. Het is ontworpen voor langdurige stabiliteit in extreme omstandigheden. Kies Semicorex voor onze superieure materiaalzuiverheid, strakke dimensionale controle en consistente productkwaliteit, waardoor u optimale resultaten kunt bereiken in elke high-temperatuurrun.*

Semicorex poreuze SIC Chuck is een krachtige keramische vacuümchuck die is ontworpen voor veilige en uniforme wafeladsorptie bij de verwerking van halfgeleiders. De ontwikkelde micro-poreuze structuur zorgt voor een uitstekende vacuümverdeling, waardoor het ideaal is voor precisietoepassingen.*