Semicorex RTP-drager is gecoat met siliciumcarbide via het chemische dampafzettingsproces (CVD), dat zeer stabiel is voor RTA, RTP of agressieve chemische reiniging. In de kern van het halfgeleiderproces worden de epitaxie-susceptors eerst onderworpen aan de afzettingsomgeving, zodat deze een hoge hitte- en corrosieweerstand heeft. De met SiC gecoate drager heeft ook een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.
● Zeer zuiver SiC-gecoat grafiet
● Superieure hittebestendigheid en chemische bestendigheid
● Hoge thermische uniformiteit
● Uitstekende slijtvastheid
Semicorex RTP Carrier voor MOCVD Epitaxiale groei is ideaal voor toepassingen voor de verwerking van halfgeleiderwafels, inclusief epitaxiale groei en verwerking van wafels. Koolstofgrafietkroezen en kwartskroezen worden door MOCVD verwerkt op het oppervlak van grafiet, keramiek, enz. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken veel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoek