RTP-drager voor MOCVD Epitaxiale groei

Semicorex RTP Carrier voor MOCVD Epitaxial Growth is ideaal voor toepassingen voor het verwerken van halfgeleiderwafers, waaronder epitaxiale groei en verwerking van wafers. Koolstofgrafietsusceptors en kwartskroezen worden door MOCVD verwerkt op het oppervlak van grafiet, keramiek, enz. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken veel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langdurige partner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex levert RTP Carrier voor MOCVD Epitaxial Growth die wordt gebruikt om wafers te ondersteunen, wat echt stabiel is voor RTA, RTP of agressieve chemische reiniging. De kern van het proces, de epitaxiale susceptoren, worden eerst onderworpen aan de afzettingsomgeving, zodat het een hoge hitte- en corrosieweerstand heeft. De SiC-gecoate drager heeft ook een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.
Onze RTP-drager voor MOCVD Epitaxial Growth is ontworpen om het beste laminaire gasstroompatroon te bereiken, waardoor een gelijkmatig thermisch profiel wordt gegarandeerd. Dit helpt vervuiling of diffusie van onzuiverheden te voorkomen, waardoor epitaxiale groei van hoge kwaliteit op de waferchip wordt gegarandeerd.
Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze RTP-drager voor MOCVD Epitaxial Growth.

Parameters van RTP Carrier voor MOCVD epitaxiale groei

Hoofdspecificaties van CVD-SIC Coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristal structuur	FCC Î² fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	Î¼m	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmte capaciteit	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Felexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300â)	430
Thermische Uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Warmtegeleiding	(W/mK)	300

Kenmerken van RTP Carrier voor MOCVD Epitaxiale groei

Hoge zuiverheid SiC gecoat grafiet
Superieure hittebestendigheid en thermische uniformiteit
Fijne SiC-kristalcoating voor een glad oppervlak
Hoge weerstand tegen chemische reiniging
Materiaal is zo ontworpen dat scheuren en delaminatie niet optreden.