Eenkristalsilicium douchekop, bekend als de gassproeikop of gasverdeelplaat, is een veelgebruikt gasdistributieapparaat in halfgeleiderproductieprocessen voor belangrijke processtappen zoals reinigen, etsen en depositie. Hoogwaardige en kosteneffectieve douchekop van monokristallijn silicium is essentieel om de precisie en kwaliteit van de chipproductie in de halfgeleiderindustrie te verbeteren.
Semicorex monokristallijn siliciumdouchekopvertoont uitzonderlijke corrosieweerstand, lage uitzettingscoëfficiënt en uitstekende warmtegeleiding. Het past zich stevig aan aan de barre omstandigheden van hoge temperaturen, hoge corrosiviteit en hoog vacuüm bij de productie van halfgeleiders en vertoont een uitzonderlijke tolerantie voor procesgassen zoals ets- en afzettingsgassen. Daarom wordt de monokristallijne siliciumdouchekop veel gebruikt in halfgeleiderreinigingsprocessen, oxidatieprocessen, afzettingsprocessen en etsprocessen.
Semicorex maakt gebruik van geavanceerde oppervlaktebehandelingstechnieken om ervoor te zorgen dat het oppervlak van de monokristallijne siliconen douchekop zowel extreem vlak als glad is. Ondertussen is het oppervlak van de monokristallijne siliciumdouchekop, gebaseerd op het gestandaardiseerde ontwerp van de kanaalstructuur en het gaspad, gelijkmatig verdeeld met veel poriën met dezelfde diameter (de minimale diameter kan 0,2 millimeter bereiken). De poriediametertolerantie van de monokristallijne siliciumdouchekop wordt nauwkeurig gecontroleerd op micrometerniveau, en de binnenwand van de porie moet glad en vrij van bramen zijn, waardoor de verdelingsnauwkeurigheid en uniformiteit van het procesgas vanuit structurele en procesaspecten wordt gewaarborgd.
Semicorex biedt deskundige maatwerkdiensten om aan de verschillende klantbehoeften te voldoen. Afhankelijk van de verschillende behoeften van zijn klanten kan het uiterlijkoplossingen aanpassen aan de afmetingen en vorm van hun reactiekamers. Dankzij het geoptimaliseerde ontwerp kunnen de wafers tijdens het hele reactieproces volledig en consistent contact maken met het procesgas, door te garanderen dat het gas gelijkmatig door de reactiekamer wordt verspreid. Dit verbetert uiteindelijk de productie-efficiëntie en productkwaliteit.