Wafelhouder

Semicorex Wafer Holder is ingenieus ontworpen met een kern gemaakt van zeer zuiver grafiet en zorgvuldig gecoat met siliciumcarbide (SiC) om te voldoen aan de veeleisende eisen van Liquid Phase Epitaxy (LPE) apparatuur. De constructie en materiaalkeuze zijn absoluut cruciaal voor het behoud van de integriteit van wafers tijdens de hoge temperatuurprocessen die inherent zijn aan de fabricage van halfgeleiders.

De met SiC gecoate grafietwaferhouder vertoont een uitstekende weerstand tegen slijtage, een essentieel kenmerk voor het behouden van de precieze afmetingen en oppervlaktekwaliteit die nodig zijn voor een optimale handling van wafers. Bij LPE-processen is de integriteit van het oppervlak van de waferhouder van het grootste belang, omdat elke degradatie of oneffenheid kan resulteren in defecten in de wafer, wat kan leiden tot lagere opbrengsten en meer afval. De SiC-coating zorgt ervoor dat de waferhouder gedurende herhaalde cycli een glad, stabiel oppervlak behoudt, wat bijdraagt ​​aan de algehele betrouwbaarheid en consistentie van het epitaxieproces.

Bovendien verbetert de SiC-coating de thermische prestaties van de Wafer Holder. De hoge thermische geleidbaarheid van siliciumcarbide zorgt voor een gelijkmatige warmteverdeling over de wafer tijdens het epitaxieproces, cruciaal voor het voorkomen van thermische gradiënten die kromtrekken of barsten van de wafers zouden kunnen veroorzaken. Dit garandeert dat de eindproducten voldoen aan de strenge kwaliteitsnormen die vereist zijn bij de productie van halfgeleiders. De combinatie van de inherente thermische eigenschappen van grafiet met de extra voordelen van de SiC-coating creëert een waferhouder die bestand is tegen de meest uitdagende thermische omgevingen.

Het ontwerp van de Wafer Holder is geoptimaliseerd voor toepassing in LPE-apparatuur. De waferhouder is nauwkeurig bewerkt om wafers veilig op te bergen, waardoor het risico op beweging of verkeerde uitlijning tijdens het epitaxieproces wordt geminimaliseerd. Deze nauwkeurigheid is van cruciaal belang, omdat zelfs de kleinste verschuiving in de waferpositie kan leiden tot een ongelijkmatige afzetting, wat de prestaties van de halfgeleiderapparaten die worden vervaardigd, beïnvloedt. De SiC-gecoate grafiet Wafer Holder zorgt voor de nodige stabiliteit en zorgt ervoor dat wafers gedurende het hele proces in de juiste positie blijven.

                                                        LEP-structuur, van LPE