CVD SiC-gecoate bovengrondringen

CVD SiC-gecoate bovengrondringen worden doorgaans geïnstalleerd in het bovenste gedeelte van de reactiekamer in plasma-etsapparatuur, rondom de elektrostatische wafer-klauwplaat. CVD SiC-gecoate bovengrondringen zijn van vitaal belang voor het gehele etssysteem, dat kan fungeren als de fysieke barrière om apparaatcomponenten te beschermen tegen plasma-aanvallen en het interne elektrische veld aan te passen en het plasmadistributiebereik te beperken om uniforme etsresultaten te garanderen.

Plasma-etsen is een droge etstechnologie die veel wordt gebruikt bij de productie van halfgeleiders, waarbij gebruik wordt gemaakt van fysieke en chemische interacties tussen plasma en het oppervlak van halfgeleidermaterialen om selectief specifieke gebieden te verwijderen, waardoor de verwerking van precisiestructuren wordt bereikt. In de veeleisende omgeving van plasma-etsen veroorzaakt hoogenergetisch plasma agressieve corrosie en aantasting van componenten in de reactiekamer. Om een ​​betrouwbare en efficiënte werking te garanderen, moeten kamercomponenten uitstekende corrosieweerstand, mechanische eigenschappen en lage vervuilingseigenschappen hebben. Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen zijn perfect ontworpen om deze zware, corrosieve werkomgevingen aan te pakken.

Betrouwbare CVD SiC-coating

Om beter te presteren onder de zware etsomstandigheden, zijn Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen bedekt met een hoogwaardige CVD SiC-coating, die hun prestaties en duurzaamheid verder verbetert.

1. Ultrahoge zuiverheid

DeSiC-coatingvervaardigd via het CVD-proces beschikt over een uitstekende verdichting met ultrahoge zuiverheid (zuiverheid groter dan 99,9999%), waardoor Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen kunnen worden voorkomen door hoogenergetische plasma-aanval bij etstoepassingen, waardoor de verontreiniging wordt vermeden die wordt veroorzaakt door onzuiverheidsdeeltjes uit matrices.

2. Verbeterde corrosieweerstand

De SiC-coating vervaardigd via het CVD-proces biedt verbeterde corrosieweerstand, waardoor Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen effectief bestand zijn tegen de uitdagende corrosie door plasma (vooral corrosieve gassen zoals halogenen en fluor).

3. Verbeterde mechanische eigenschappen

Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen kunnen het intense plasmabombardement, mechanische belasting en frequente manipulatie doorstaan ​​zonder vervorming of breuk tijdens langdurig gebruik dankzij de verbeterde hardheid en slijtvastheid van de CVD SiC-coating.

Hoogwaardige verwerking en kwaliteitscontrole

Om zich perfect aan te passen aan de veeleisende omstandigheden bij het etsen van halfgeleiders, ondergaan Semicorex CVD SiC-gecoate bovengrondringen een precisiebewerking en strenge inspecties.

Oppervlaktebehandeling: Polijstprecisie is Ra < 0,1 µm; fijne slijpprecisie is Ra > 0,1 µm

De verwerkingsprecisie wordt geregeld binnen ≤ 0,03 mm

Kwaliteitscontrole:

Semicorex massieve CVD SiC-ringen zijn onderworpen aan ICP-MS-analyse (inductief gekoppelde plasmamassaspectrometrie). Semicorex massieve CVD SiC-ringen zijn onderworpen aan dimensionale metingen, weerstandstests en visuele inspectie, waardoor wordt gegarandeerd dat de producten vrij zijn van spanen, krassen, scheuren, vlekken en andere defecten.