Waferprocesverwarmer

Semicorex Wafer Process Heater is gemaakt door Silicon Carbide Coating (SiC) grafiet, de coating wordt aangebracht door een CVD-methode op specifieke soorten grafiet met hoge dichtheid, zodat het kan werken in de hogetemperatuuroven met meer dan 3000 ° C in een inerte atmosfeer, 2200°C onder vacuüm.
De speciale eigenschappen en lage massa van het Wafer Process Heater-materiaal zorgen voor snelle verwarmingssnelheden, uniforme temperatuurverdeling en uitstekende precisie bij het regelen. In vergelijking met ander materiaal blijft het oppervlak van siliciumcarbide vlak vanwege de lage thermische uitzetting, zelfs bij snelle temperatuurschommelingen. De kookplaten zijn zeer geschikt voor veeleisende processen in halfgeleiderverwerkingssystemen.
Bij Semicorex richten we ons op het leveren van hoogwaardige, kosteneffectieve producten aan onze klanten. Onze Wafer Process Heater heeft een prijsvoordeel en wordt geëxporteerd naar vele Europese en Amerikaanse markten. We streven ernaar om uw partner voor de lange termijn te zijn, die consistente kwaliteitsproducten en uitzonderlijke klantenservice levert.

Parameters van Wafer Process Heater

Kenmerken van Wafer Process Heater

- CVD SiC-coatings om de levensduur te verbeteren.
- Hoge temperatuurbestendigheid, corrosieweerstand, lange levensduur, kunnen de kwaliteit en opbrengst van de wafel verbeteren.
- Het heeft een extreem lage thermische uitzettingscoëfficiënt, hoge temperatuurbestendigheid, hoge slijtvastheid, goede isolatie, goede chemische stabiliteit en bijna paarse (rode) zichtbaar lichtpenetratie.

We kunnen anti-oxidatie en grafietsmeltkroes met lange levensduur, grafietvorm en alle onderdelen van grafietverwarmer leveren.