> Producten > Keramiek > Siliciumcarbide (SiC) > Gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur

Producten

Nieuwe Producten

Gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur

Semicorex is een grootschalige fabrikant en leverancier van siliciumcarbide gecoate grafiet susceptor in China. We richten ons op halfgeleiderindustrieën zoals siliciumcarbidelagen en epitaxie-halfgeleiders. Onze gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur heeft een goed prijsvoordeel en bestrijkt veel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur is voorzien van een SiC-coating, een dichte, slijtvaste coating van siliciumcarbide (SiC). Het heeft hoge corrosie- en hittebestendigheidseigenschappen en een uitstekende thermische geleidbaarheid. We brengen SiC in dunne lagen aan op het grafiet met behulp van het chemische dampdepositieproces (CVD).

Onze gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur is ontworpen om het beste laminaire gasstroompatroon te bereiken, waardoor een gelijkmatig thermisch profiel wordt gegarandeerd. Dit helpt eventuele verontreiniging of verspreiding van onzuiverheden te voorkomen, waardoor epitaxiale groei van hoge kwaliteit op de waferchip wordt gegarandeerd.

Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur.

Parameters van gasinlaatring voor halfgeleiderapparatuur

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur	FCC β-fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	urn	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmtecapaciteit	J kg-1 K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Flexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300℃)	430
Thermische uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Thermische geleidbaarheid	(W/mK)	300