China ICP-etsdrager fabrikanten, leveranciers, fabriek

U kunt er zeker van zijn dat u ICP Etching Carrier in onze fabriek koopt en wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex wafer susceptor is gemaakt van met siliciumcarbide gecoat grafiet met behulp van het chemische dampafzettingsproces (CVD). Dit materiaal bezit unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische bestendigheid, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor diverse toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder inductief gekoppelde plasma-etssystemen (ICP).

Wij bieden service op maat, helpen u te innoveren met componenten die langer meegaan, verkorten de cyclustijden en verbeteren de opbrengsten.

View as

SiC-coating voor hoge temperaturen voor plasma-etskamers

Als het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is de hoge temperatuur SiC-coating van Semicorex voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-plasma-etsbak

De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-plasma-etssysteem

De SiC-gecoate drager van Semicorex voor ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid biedt.

Lees verder Stuur onderzoek

Inductief gekoppeld plasma (ICP)

De met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor inductief gekoppeld plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-etswafelhouder

De ICP-etswafelhouder van Semicorex is de perfecte oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-etsdragerplaat

De ICP Etching Carrier Plate van Semicorex is de perfecte oplossing voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product biedt superieure hitte- en corrosieweerstand, zelfs thermische uniformiteit en laminaire gasstroompatronen. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.

Lees verder Stuur onderzoek

<1 2 3 4 >

Semicorex produceert al vele jaren ICP-etsdrager en is een van de professionele ICP-etsdrager fabrikanten en leveranciers in China. Zodra u onze geavanceerde en duurzame producten koopt die bulkverpakking leveren, garanderen wij de grote hoeveelheid in snelle levering. Door de jaren heen hebben we klanten service op maat geboden. Klanten zijn tevreden met onze producten en uitstekende service. We kijken er oprecht naar uit om uw betrouwbare zakenpartner voor de lange termijn te worden! Welkom bij het kopen van producten van onze fabriek.