U kunt er zeker van zijn dat u ICP Etching Carrier in onze fabriek koopt en wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex wafer susceptor is gemaakt van met siliciumcarbide gecoat grafiet met behulp van het chemische dampafzettingsproces (CVD). Dit materiaal bezit unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische bestendigheid, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor diverse toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder inductief gekoppelde plasma-etssystemen (ICP).
Wij bieden service op maat, helpen u te innoveren met componenten die langer meegaan, verkorten de cyclustijden en verbeteren de opbrengsten.
De SiC-gecoate drager van Semicorex voor ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid biedt.
Lees verderStuur onderzoekDe met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor inductief gekoppeld plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoekDe ICP-etswafelhouder van Semicorex is de perfecte oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoekDe ICP Etching Carrier Plate van Semicorex is de perfecte oplossing voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product biedt superieure hitte- en corrosieweerstand, zelfs thermische uniformiteit en laminaire gasstroompatronen. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.
Lees verderStuur onderzoekDe waferhouder van Semicorex voor het ICP-etsproces is de perfecte keuze voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product beschikt over superieure hitte- en corrosieweerstand, gelijkmatige thermische uniformiteit en optimale laminaire gasstroompatronen voor consistente en betrouwbare resultaten.
Lees verderStuur onderzoekICP Silicon Carbon Coated Graphite van Semicorex is de ideale keuze voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product beschikt over superieure hitte- en corrosieweerstand, gelijkmatige thermische uniformiteit en optimale laminaire gasstroompatronen.
Lees verderStuur onderzoek