U kunt er zeker van zijn dat u ICP Etching Carrier in onze fabriek koopt en wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex wafer susceptor is gemaakt van met siliciumcarbide gecoat grafiet met behulp van het chemische dampafzettingsproces (CVD). Dit materiaal bezit unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische bestendigheid, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor diverse toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder inductief gekoppelde plasma-etssystemen (ICP).
Wij bieden service op maat, helpen u te innoveren met componenten die langer meegaan, verkorten de cyclustijden en verbeteren de opbrengsten.
Kies het ICP-plasma-etssysteem van Semicorex voor PSS-proces voor hoogwaardige epitaxie- en MOCVD-processen. Ons product is speciaal ontworpen voor deze processen en biedt superieure hitte- en corrosiebestendigheid. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.
Lees verderStuur onderzoekDe ICP-plasma-etsplaat van Semicorex biedt superieure hitte- en corrosieweerstand voor het hanteren van wafers en processen voor het afzetten van dunne films. Ons product is ontworpen om hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging te weerstaan, waardoor duurzaamheid en een lange levensduur worden gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.
Lees verderStuur onderzoekOp zoek naar een betrouwbare waferdrager voor etsprocessen? Zoek niet verder dan de siliciumcarbide ICP-etsdrager van Semicorex. Ons product is ontworpen om hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging te weerstaan, waardoor duurzaamheid en een lange levensduur worden gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.
Lees verderStuur onderzoekDe SiC-plaat van Semicorex voor het ICP-etsproces is de perfecte oplossing voor hoge temperaturen en zware chemische verwerkingsvereisten bij het afzetten van dunne films en het hanteren van wafers. Ons product beschikt over superieure hittebestendigheid en gelijkmatige thermische uniformiteit, waardoor een consistente dikte en weerstand van de epilaag wordt gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak zorgt onze uiterst zuivere SiC-kristalcoating voor een optimale verwerking van onberispelijke wafels.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC gecoate ICP-etsdrager speciaal ontworpen voor epitaxieapparatuur met hoge hitte- en corrosieweerstand in China. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoek