Plasmaverwerking Focusring

Semicorex Plasmaverwerking focusring is speciaal ontworpen om te voldoen aan de hoge eisen van plasma-etsverwerking in de halfgeleiderindustrie. Onze geavanceerde, zeer zuivere componenten met siliciumcarbidecoating zijn gebouwd om extreme omgevingen te weerstaan en zijn geschikt voor gebruik in verschillende toepassingen, waaronder lagen van siliciumcarbide en epitaxie-halfgeleiders.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Onze focusring voor plasmaverwerking is zeer stabiel voor RTA, RTP of agressieve chemische reiniging, waardoor ze een ideale keuze zijn voor gebruik in plasma-etskamers (of droge etskamers). Onze focusringen of randringen zijn ontworpen om de etsuniformiteit rond de wafelrand of omtrek te verbeteren en zijn ontworpen om vervuiling en ongepland onderhoud te minimaliseren.

Onze SiC-coating is een dichte, slijtvaste siliciumcarbidecoating met hoge corrosie- en hittebestendigheidseigenschappen en uitstekende thermische geleidbaarheid. We brengen SiC in dunne lagen aan op het grafiet met behulp van het chemische dampdepositieproces (CVD). Dit zorgt ervoor dat onze SiC-focusringen superieure kwaliteit en duurzaamheid hebben, waardoor ze een betrouwbare keuze zijn voor uw plasma-etsverwerkingsbehoeften.

Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze focusring voor plasmaverwerking.

Parameters van focusring voor plasmaverwerking

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur	FCC β-fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	urn	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmtecapaciteit	J kg-1 K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Flexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300℃)	430
Thermische uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Thermische geleidbaarheid	(W/mK)	300

Kenmerken van de focusring voor plasmaverwerking

- CVD-siliciumcarbide-coatings om de levensduur te verbeteren.

- Thermische isolatie gemaakt van hoogwaardige, gezuiverde stijve koolstof.

- Koolstof/koolstofcomposiet verwarmer en plaat. - Zowel het grafietsubstraat als de siliciumcarbidelaag hebben een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.

- Zeer zuivere grafiet- en SiC-coating voor weerstand tegen gaatjes en een langere levensduur