- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Producten
- View as
ICP-plasma-etsbak
De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoek
ICP-plasma-etssysteem
De SiC-gecoate drager van Semicorex voor ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid biedt.
Lees verderStuur onderzoek
Inductief gekoppeld plasma (ICP)
De met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor inductief gekoppeld plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoek
ICP-etswafelhouder
De ICP-etswafelhouder van Semicorex is de perfecte oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoek
ICP-etsdragerplaat
De ICP Etching Carrier Plate van Semicorex is de perfecte oplossing voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product biedt superieure hitte- en corrosieweerstand, zelfs thermische uniformiteit en laminaire gasstroompatronen. Met een schoon en glad oppervlak is onze drager perfect voor het hanteren van ongerepte wafels.
Lees verderStuur onderzoek
Waferhouder voor ICP-etsproces
De waferhouder van Semicorex voor het ICP-etsproces is de perfecte keuze voor veeleisende waferhantering en dunnefilmafzettingsprocessen. Ons product beschikt over superieure hitte- en corrosieweerstand, gelijkmatige thermische uniformiteit en optimale laminaire gasstroompatronen voor consistente en betrouwbare resultaten.
Lees verderStuur onderzoek
