RTP-ring
  • RTP-ringRTP-ring

RTP-ring

Semicorex RTP Ring is een SiC-gecoate grafietring ontworpen voor hoogwaardige toepassingen in Rapid Thermal Processing (RTP)-systemen. Kies Semicorex vanwege onze geavanceerde materiaaltechnologie, die superieure duurzaamheid, precisie en betrouwbaarheid bij de productie van halfgeleiders garandeert.*

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex RTP Ring is een SiC-gecoate grafietring, ontworpen voor hoogwaardige toepassingen in Rapid Thermal Processing (RTP)-systemen. Dit product is cruciaal voor de productie van halfgeleiders, vooral tijdens de RTP-fase, waar nauwkeurige en uniforme verwarming essentieel is voor processen zoals gloeien, doping en oxidatie. Het ontwerp van de RTP-ring zorgt voor superieure thermische geleidbaarheid, chemische weerstand en mechanische sterkte, waardoor het een betrouwbare oplossing is voor processen bij hoge temperaturen bij de productie van halfgeleiderapparaten.


Belangrijkste kenmerken:


SiC-coating voor verbeterde duurzaamheid

De RTP-ring is gecoat met een laag siliciumcarbide (SiC), een materiaal dat bekend staat om zijn uitstekende thermische stabiliteit en chemische bestendigheid. Deze coating geeft de ring een verbeterde duurzaamheid, waardoor deze bestand is tegen de extreme omstandigheden van RTP-processen. De SiC-laag vermindert ook aanzienlijk de slijtage die doorgaans wordt veroorzaakt door blootstelling aan hoge temperaturen, waardoor een langere levensduur wordt gegarandeerd in vergelijking met ongecoate grafietcomponenten.

Hoge thermische geleidbaarheid

Grafiet is een uitstekende warmtegeleider en in combinatie met de SiC-coating levert de RTP-ring een uitzonderlijke thermische geleidbaarheid. Dit maakt een uniforme warmteverdeling mogelijk, wat essentieel is voor een nauwkeurige temperatuurregeling tijdens snelle thermische verwerking. Uniforme verwarming verbetert de kwaliteit en consistentie van halfgeleiderwafels, wat leidt tot betere prestaties in uiteindelijke apparaten.

Chemische en thermische weerstand

De SiC-coating beschermt de grafietkern tegen reactieve gassen en agressieve chemicaliën die vaak voorkomen tijdens RTP, zoals zuurstof, stikstof en verschillende doteermiddelen. Deze bescherming voorkomt corrosie en degradatie van de ring, waardoor de structurele integriteit zelfs onder uitdagende chemische omgevingen behouden blijft. Bovendien zorgt de SiC-coating ervoor dat de ring bestand is tegen de hoge temperaturen die doorgaans vereist zijn in RTP-toepassingen zonder degradatie, waardoor zowel weerstand tegen oxidatie als uitstekende sterkte bij hoge temperaturen wordt geboden.

Aanpassingsopties

Semicorex biedt de RTP Ring aan met verschillende aanpassingsmogelijkheden om aan specifieke procesvereisten te voldoen. Aangepaste maten en vormen zijn beschikbaar voor verschillende RTP-kamerconfiguraties en waferhanteringssystemen. Het bedrijf kan ook de dikte van de SiC-coating aanpassen aan de behoeften van de klant, waardoor optimale prestaties en een lange levensduur voor specifieke toepassingen worden gegarandeerd.

Verbeterde procesefficiëntie

De RTP-ring verbetert de procesefficiëntie door nauwkeurige en uniforme warmteverdeling over halfgeleiderwafels te bieden. De verbeterde thermische controle helpt thermische gradiënten te verminderen en defecten tijdens de thermische behandelingsfasen van wafelverwerking te minimaliseren. Dit leidt tot betere opbrengsten en eindproducten van hogere kwaliteit, wat bijdraagt ​​aan lagere productiekosten en een verbeterde doorvoer.

Laag besmettingsrisico

De SiC-gecoate grafietring helpt het besmettingsrisico tijdens de verwerking van halfgeleiders te minimaliseren. In tegenstelling tot andere materialen laat SiC geen deeltjes vrij, die tijdens de thermische behandeling mogelijk de kwetsbare halfgeleiderwafels zouden kunnen verstoren. Deze functie is vooral van cruciaal belang in cleanroomomgevingen waar contaminatiecontrole van het allergrootste belang is.


Toepassingen in RTP:


De RTP-ring wordt voornamelijk gebruikt in de Rapid Thermal Processing-fase van de productie van halfgeleiders, waarbij wafers in zeer korte tijd tot hoge temperaturen worden verwarmd om nauwkeurige materiaalmodificaties te bereiken. Deze fase is cruciaal voor processen zoals:



  • Gloeien:RTP wordt vaak gebruikt voor het uitgloeien van gedoteerde wafers om kristalschade te herstellen en doteermiddelen te activeren. De met SiC gecoate grafiet RTP-ring zorgt voor een uniforme warmteverdeling, wat van cruciaal belang is voor het behalen van consistente gloeiresultaten.
  • Oxidatie en diffusie:Tijdens oxidatie- of diffusieprocessen helpen de hoge thermische geleidbaarheid en chemische weerstand van de RTP-ring de uniforme groei van oxidelagen en doteringsdiffusie te vergemakkelijken, waardoor nauwkeurige laagcontrole en waferkwaliteit worden gegarandeerd.
  • Doping:Bij dopingprocessen speelt de RTP-ring een sleutelrol bij het handhaven van de noodzakelijke temperatuurstabiliteit, wat essentieel is voor het bereiken van de gewenste doteringsprofielen in het halfgeleidermateriaal.
  • Activering van Dopants:De snelle temperatuurstijging en het koelvermogen van RTP-systemen, in combinatie met de thermische efficiëntie van de SiC-gecoate grafietring, maken nauwkeurige doteringsactivering mogelijk, wat essentieel is voor het afstemmen van de elektrische eigenschappen van halfgeleidermaterialen.



Voordelen ten opzichte van andere materialen:


Vergeleken met traditionele grafietringen of andere gecoate componenten biedt de SiC-gecoate grafiet RTP-ring verschillende voordelen. De SiC-coating verlengt niet alleen de levensduur van het onderdeel, maar zorgt ook voor superieure prestaties op het gebied van hittebestendigheid en thermische geleidbaarheid. Op grafiet gebaseerde componenten zonder SiC-coatings kunnen bij zware thermische cycli een snellere degradatie ondergaan, wat leidt tot frequentere vervangingen en mogelijk hogere operationele kosten. Bovendien vermindert de SiC-coating de behoefte aan periodiek onderhoud, waardoor de algehele efficiëntie van de halfgeleiderverwerking wordt verbeterd.

Bovendien voorkomt de SiC-coating het vrijkomen van verontreinigingen tijdens verwerking bij hoge temperaturen, een veel voorkomend probleem bij ongecoat grafiet. Dit zorgt voor een schonere procesomgeving, wat essentieel is voor de hoge precisie-eisen van de halfgeleiderproductie.


Semicorex RTP-ring – SiC-gecoate grafietring is een hoogwaardige component ontworpen voor gebruik in snelle thermische verwerkingssystemen. Met zijn uitstekende thermische geleidbaarheid, hoge thermische en chemische bestendigheid en aanpasbare functies is het een ideale oplossing voor veeleisende halfgeleiderprocessen. Het vermogen om nauwkeurige temperatuurregeling te handhaven en de levensduur van componenten te verlengen, verbetert de procesefficiëntie aanzienlijk, vermindert het risico op verontreiniging en zorgt voor een consistente, hoogwaardige productie van halfgeleiders. Door te kiezen voor de Semicorex SiC-gecoate grafiet RTP-ring kunnen fabrikanten superieure resultaten behalen in hun RTP-processen, waardoor zowel de efficiëntie als de kwaliteit van hun productie worden verbeterd.




Hottags: RTP-ring, China, fabrikanten, leveranciers, fabriek, aangepast, bulk, geavanceerd, duurzaam
Gerelateerde categorie
Stuur onderzoek
Stel gerust uw vraag via onderstaand formulier. Wij zullen u binnen 24 uur antwoorden.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept