SiC-diffusieboot

Met hoogwaardige materiaaleigenschappen vertegenwoordigt Semicorex SiC Diffusion Boat optimale functionaliteit over een breed spectrum van operationele parameters: hardheid, veerkracht en thermische en chemische weerstand, enz. Deze materiaalkeuze is cruciaal voor het verminderen van besmettingsrisico's, het beschermen van wafers en het verdragen van de veeleisende omstandigheden in de fabricageprocessen van halfgeleiders. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan de productie en levering van hoogwaardige SiC-diffusieboten die kwaliteit combineren met kostenefficiëntie.**

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Hier is een gedetailleerd overzicht van de voordelen van SiC Diffusion Boat:

Structurele stabiliteit en thermische weerstand: Semicorex SiC Diffusion Boat biedt uitzonderlijke thermische stabiliteit en dimensionale integriteit bij hoge temperaturen, waardoor ze zeer voordelig zijn voor gebruik bij verwerkings- en warmtebehandelingstoepassingen bij hoge temperaturen.

Uitstekende weerstand tegen corrosie: De SiC-diffusieboot vertoont een uitstekende weerstand tegen corrosie, waardoor langdurige prestaties onder zware chemische en omgevingsomstandigheden worden gegarandeerd.

Materiaal met hoge zuiverheid: de SiC-diffusieboot is vervaardigd uit een zeer zuivere matrix en siliciumcarbidefilm, waardoor de introductie van onzuiverheden effectief wordt voorkomen en verontreiniging tijdens het productieproces wordt verminderd. Deze hoge zuiverheid draagt aanzienlijk bij aan de verbetering van de productkwaliteit.

Lage dichtheid: de SiC-diffusieboot heeft een relatief lage dichtheid in vergelijking met veel andere materialen, waardoor ze licht van gewicht zijn en gemakkelijk hanteerbaar zijn tijdens de behandeling en verwerking.

Veelzijdige toepassing: De SiC-diffusieboot is zeer geschikt voor kritische dragende componenten in fotovoltaïsche en halfgeleiderapparatuur, vooral bij het verwerken van wafers.

Gebruik in verticale halfgeleiderovens: Semicorex SiC Diffusion Boat wordt voornamelijk gebruikt in verticale halfgeleiderovens voor oxidatie- en gloeiprocessen bij hoge temperaturen. Deze toepassing benadrukt hun cruciale rol bij het faciliteren van deze specifieke productieprocedures voor halfgeleiders.