Als professionele fabrikant willen wij u graag SiC Epitaxy aanbieden. En wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex levert een CVD siliciumcarbide gecoate grafiet susceptor die wordt gebruikt om wafers te ondersteunen. Hun uiterst zuivere, met siliciumcarbide (SiC) gecoate grafietconstructie biedt superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit voor consistente dikte en weerstand van de epilaag, en duurzame chemische bestendigheid. De fijne SiC-kristalcoating zorgt voor een schoon, glad oppervlak, dat van cruciaal belang is bij het hanteren, omdat onberispelijke wafers op veel punten over hun hele oppervlak in contact komen met de susceptor.
Semicorex Epitaxy Component is een cruciaal element in de productie van hoogwaardige SiC-substraten voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen, een betrouwbare keuze voor LPE-reactorsystemen. Door te kiezen voor Semicorex Epitaxy Component kunnen klanten vertrouwen hebben in hun investering en hun productiecapaciteiten in de competitieve halfgeleidermarkt verbeteren.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex LPE Halfmoon Reaction Chamber is onmisbaar voor de efficiënte en betrouwbare werking van SiC-epitaxie, waardoor de productie van hoogwaardige epitaxiale lagen wordt gegarandeerd, terwijl de onderhoudskosten worden verlaagd en de operationele efficiëntie wordt verhoogd. **
Lees verderStuur onderzoekSemicorex 6'' Wafer Carrier voor Aixtron G5 biedt een groot aantal voordelen voor gebruik in Aixtron G5-apparatuur, met name bij halfgeleiderproductieprocessen met hoge temperatuur en hoge precisie.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Epitaxy Wafer Carrier biedt een zeer betrouwbare oplossing voor Epitaxy-toepassingen. De geavanceerde materialen en coatingtechnologie zorgen ervoor dat deze dragers uitstekende prestaties leveren, waardoor de operationele kosten en downtime als gevolg van onderhoud of vervanging worden verminderd.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex introduceert zijn SiC Disc Susceptor, ontworpen om de prestaties van Epitaxy-, Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) en Rapid Thermal Processing (RTP)-apparatuur te verbeteren. De zorgvuldig ontworpen SiC Disc Susceptor biedt eigenschappen die superieure prestaties, duurzaamheid en efficiëntie garanderen in omgevingen met hoge temperaturen en vacuüm.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC ALD Susceptor biedt talrijke voordelen in ALD-processen, waaronder stabiliteit bij hoge temperaturen, verbeterde filmuniformiteit en -kwaliteit, verbeterde procesefficiëntie en langere levensduur van de susceptor. Deze voordelen maken de SiC ALD Susceptor tot een waardevol hulpmiddel voor het realiseren van hoogwaardige dunne films in diverse veeleisende toepassingen.**
Lees verderStuur onderzoek