SiC-procesbuis

Semicorex SiC (siliciumcarbide) procesbuis is een gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in wafer-warmtebehandelingsprocessen, met name in toepassingen die hoge temperaturen, corrosieve atmosferen of beide vereisen. Het is ontworpen om een ​​beschermende en gecontroleerde omgeving te bieden voor halfgeleiderwafels tijdens warmtebehandeling of thermische verwerking.

De procesbuis is zorgvuldig ontworpen om een ​​afgesloten kamer te creëren waarin wafers worden geplaatst voor warmtebehandeling. Het fungeert als een barrière en voorkomt direct contact van wafels met de omgeving. Deze isolatie is cruciaal om de zuiverheid van de verwerkingsatmosfeer te behouden en de wafels tegen verontreiniging te beschermen.

In de SiC-procesbuis vindt de warmtebehandeling van de wafer plaats. Dit kan verschillende processen omvatten, zoals uitgloeien, oxidatie, diffusie en andere thermische behandelingen die nodig zijn om de eigenschappen van het wafelmateriaal te wijzigen. De eigenschappen van de buis, zoals de hoge thermische geleidbaarheid en weerstand tegen chemische aantasting, zorgen voor een uniforme temperatuurverdeling en bescherming van de wafers.

SiC-procesbuizen zijn cruciale componenten in warmtebehandelingsprocessen van wafers. Hun weerstand tegen hoge temperaturen, chemische inertheid en het vermogen om een ​​gecontroleerde omgeving te creëren, zorgen voor de succesvolle uitvoering van thermische verwerkingsstappen, wat leidt tot de productie van hoogwaardige halfgeleiderwafels.