SiC-coating is een dunne laag op de susceptor via het chemische dampafzettingsproces (CVD). Siliciumcarbidemateriaal biedt een aantal voordelen ten opzichte van silicium, waaronder 10x de elektrische doorslagsterkte en 3x de bandafstand, waardoor het materiaal bestand is tegen hoge temperaturen en chemicaliën, uitstekende slijtvastheid en thermische geleidbaarheid.
Semicorex levert service op maat, helpt u te innoveren met componenten die langer meegaan, verkort de cyclustijden en verbetert de opbrengsten.
SiC-coating heeft verschillende unieke voordelen
Weerstand tegen hoge temperaturen: CVD SiC-gecoate susceptor is bestand tegen hoge temperaturen tot 1600 °C zonder significante thermische degradatie te ondergaan.
Chemische bestendigheid: De siliciumcarbidecoating biedt uitstekende weerstand tegen een breed scala aan chemicaliën, waaronder zuren, alkaliën en organische oplosmiddelen.
Slijtvastheid: De SiC-coating geeft het materiaal een uitstekende slijtvastheid, waardoor het geschikt is voor toepassingen met hoge slijtage.
Thermische geleidbaarheid: De CVD SiC-coating geeft het materiaal een hoge thermische geleidbaarheid, waardoor het geschikt is voor gebruik in toepassingen met hoge temperaturen die een efficiënte warmteoverdracht vereisen.
Hoge sterkte en stijfheid: de met siliciumcarbide gecoate susceptor geeft het materiaal een hoge sterkte en stijfheid, waardoor het geschikt is voor toepassingen die een hoge mechanische sterkte vereisen.
SiC-coating wordt in verschillende toepassingen gebruikt
LED-productie: CVD SiC-gecoate susceptor wordt gebruikt bij de productie van verschillende LED-typen, waaronder blauwe en groene LED, UV-LED en diep-UV-LED, vanwege de hoge thermische geleidbaarheid en chemische weerstand.
Mobiele communicatie: CVD SiC gecoate susceptor is een cruciaal onderdeel van de HEMT om het GaN-op-SiC epitaxiale proces te voltooien.
Halfgeleiderverwerking: CVD SiC-gecoate susceptor wordt in de halfgeleiderindustrie gebruikt voor verschillende toepassingen, waaronder wafelverwerking en epitaxiale groei.
SiC-gecoate grafietcomponenten
Gemaakt van Silicon Carbide Coating (SiC) grafiet, de coating wordt via een CVD-methode aangebracht op specifieke soorten grafiet met hoge dichtheid, zodat deze kan werken in de hogetemperatuuroven met meer dan 3000 °C in een inerte atmosfeer, 2200 °C in vacuüm .
De bijzondere eigenschappen en de lage massa van het materiaal zorgen voor snelle opwarmsnelheden, een uniforme temperatuurverdeling en een uitstekende controleprecisie.
Materiaalgegevens van Semicorex SiC Coating
Typische eigenschappen |
Eenheden |
Waarden |
Structuur |
|
FCC β-fase |
Oriëntatie |
Fractie (%) |
111 voorkeur |
Bulkdichtheid |
g/cm³ |
3.21 |
Hardheid |
Vickers-hardheid |
2500 |
Warmtecapaciteit |
J kg-1 K-1 |
640 |
Thermische uitzetting 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Young's Modulus |
Gpa (4pt bocht, 1300℃) |
430 |
Korrelgrootte |
urn |
2~10 |
Sublimatie temperatuur |
℃ |
2700 |
Flexurale kracht |
MPa (RT 4-punts) |
415 |
Thermische geleidbaarheid |
(W/mK) |
300 |
Conclusie CVD SiC gecoate susceptor is een composietmateriaal dat de eigenschappen van een susceptor en siliciumcarbide combineert. Dit materiaal bezit unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische bestendigheid, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor diverse toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder halfgeleiderverwerking, chemische verwerking, warmtebehandeling, productie van zonnecellen en LED-productie.
Semicorex Silicon Pedestal, een vaak over het hoofd gezien maar toch cruciaal belangrijk onderdeel, speelt een cruciale rol bij het bereiken van nauwkeurige en herhaalbare resultaten bij diffusie- en oxidatieprocessen van halfgeleiders. Het gespecialiseerde platform waarop siliciumboten in hogetemperatuurovens rusten, biedt unieke voordelen die direct bijdragen aan verbeterde temperatuuruniformiteit, verbeterde waferkwaliteit en uiteindelijk superieure prestaties van halfgeleiderapparaten.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Silicon Annealing Boat, zorgvuldig ontworpen voor het hanteren en verwerken van siliciumwafels, speelt een cruciale rol bij het realiseren van hoogwaardige halfgeleiderapparaten. De unieke ontwerpkenmerken en materiaaleigenschappen maken het essentieel voor kritische fabricagestappen zoals diffusie en oxidatie, waardoor een uniforme verwerking wordt gegarandeerd, de opbrengst wordt gemaximaliseerd en wordt bijgedragen aan de algehele kwaliteit en betrouwbaarheid van halfgeleiderapparaten.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex MOCVD Epitaxy Susceptor is een cruciaal onderdeel geworden van de Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD)-epitaxie, waardoor de fabricage van hoogwaardige halfgeleiderapparaten met uitzonderlijke efficiëntie en precisie mogelijk is. De unieke combinatie van materiaaleigenschappen maakt het perfect geschikt voor de veeleisende thermische en chemische omgevingen die voorkomen tijdens de epitaxiale groei van samengestelde halfgeleiders.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Horizontal SiC Wafer Boat is uitgegroeid tot een onmisbaar hulpmiddel bij de productie van hoogwaardige halfgeleider- en fotovoltaïsche apparaten. Deze gespecialiseerde dragers, zorgvuldig ontworpen uit zeer zuiver siliciumcarbide (SiC), bieden uitzonderlijke thermische, chemische en mechanische eigenschappen die essentieel zijn voor de veeleisende processen die betrokken zijn bij het vervaardigen van geavanceerde elektronische componenten.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Multi Pocket Susceptor vertegenwoordigt een cruciale technologie voor de epitaxiale groei van hoogwaardige halfgeleiderwafels. Deze susceptors zijn vervaardigd via een geavanceerd Chemical Vapour Deposition (CVD)-proces en bieden een robuust en krachtig platform voor het bereiken van uitzonderlijke epitaxiale laaguniformiteit en procesefficiëntie.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Ceramic Wafer Boat is uitgegroeid tot een cruciale technologie die een onwrikbaar platform biedt voor verwerking bij hoge temperaturen, terwijl de integriteit van de wafer wordt gewaarborgd en de zuiverheid wordt gegarandeerd die vereist is voor hoogwaardige apparaten. Het is afgestemd op de halfgeleider- en fotovoltaïsche industrieën die op precisie zijn gebouwd. Elk aspect van de wafelverwerking, van afzetting tot diffusie, vereist nauwgezette controle en ongerepte omgevingen. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan de productie en levering van hoogwaardige SiC-keramische waferboten die kwaliteit combineren met kostenefficiëntie.**
Lees verderStuur onderzoek