Eénkristalsiliciumelektroden

Eénkristalsiliciumelektrodenworden doorgaans bovenaan de etskamer geïnstalleerd en dienen als bovenste elektrode. Het oppervlak van monokristallijne siliciumelektroden is voorzien van gelijkmatig verdeelde microgaten, die gelijkmatig etsgas in de reactiekamer kunnen afleveren. Tijdens het etsproces werken ze samen met de onderste elektrode om een ​​uniform elektrisch veld te genereren, wat bijdraagt ​​aan het bieden van een ideale werkomstandigheden voor nauwkeurig etsen.

Zorgvuldige materiaalkeuze

Semicorex selecteert premium MCZ-gekweekt monokristallijn silicium om monokristallijne siliciumelektroden te vervaardigen, wat toonaangevende productprestaties en kwaliteit biedt.

1. Ultrahoge zuiverheid

Semicorex monokristallijne siliciumelektroden hebben een ultrahoge zuiverheid van meer dan 99,9999999%, wat betekent dat het gehalte aan interne metaalonzuiverheden extreem laag is.

2. Uitzonderlijke weerstandsuniformiteit

Anders dan het conventionele CZ monokristallijne silicium, bereikt het MCZ-gekweekte monokristallijne silicium dat door Semicorex wordt gebruikt een weerstandsuniformiteit van minder dan 5%. Zijn lage resolutie. wordt geregeld onder 0,02 Ω·cm, middenres. ligt tussen 0,2 en 25Ω·cm, en hoge resolutie. ligt tussen 70-90 Ω·cm (maatwerk is op aanvraag mogelijk).

3. Uitstekende materiaalstructuur

Het via de MCZ-methode gegroeide éénkristallijne silicium biedt een stabielere structuur en minder defecten, waardoor Semicorex éénkristallijne siliciumelektroden een opmerkelijke weerstand tegen plasmacorrosie bieden en bestand zijn tegen zware etsomstandigheden.

---

Hoogwaardige verwerkingsprecisie

Semicorexmonokristallijn siliciumElektroden worden vervaardigd via een compleet productieproces, van siliciumstaaf tot eindproduct, inclusief snijden, vlakslijpen, gatenboren, nat etsen en oppervlaktepolijsten. Semicorex handhaaft een strenge precisiecontrole bij elke stap om ervoor te zorgen dat de diameter, dikte, oppervlaktevlakheid, gatafstand en opening van de elektroden binnen ideale toleranties blijven.

1. Microhole-verwerking

De microgaten op monokristallijne siliciumelektroden hebben een uniforme afstand en consistente diameters (variërend van 0,2 tot 0,8 mm), met gladde en braamvrije binnenwanden. Dit garandeert effectief een uniforme en stabiele toevoer van etsgas, waardoor de uniformiteit en precisie van het waferetsen wordt gegarandeerd.

2. Verwerkingsnauwkeurigheid

De verwerkingsnauwkeurigheid van Semicorex monokristallijne siliciumelektroden wordt geregeld binnen 0,3 mm, en hun polijstprecisie kan strikt worden gecontroleerd onder 0,1 µm, en fijn slijpen is minder dan 1,6 µm.