Vacuüm klootzakken

Semicorex-vacuümbuizingen zijn precisie-ontworpen oplossingen die zijn ontworpen om een ​​veilige, stabiele en efficiënte afhandeling van wafels te bieden in de productieprocessen van halfgeleiders. Deze vacuümbevels worden voornamelijk gebruikt voor het vasthouden van wafels tijdens verschillende verwerkingsfasen, waardoor minimale schade aan de wafels, maximale stabiliteit en verbeterde procesefficiëntie wordt gewaarborgd. Onze vacuümbuigingen zijn verkrijgbaar in verschillende basismaterialen en keramische platen en bieden op maat gemaakte oplossingen om te voldoen aan de diverse behoeften van de halfgeleiderindustrie en andere precisie -industrie.

Belangrijkste kenmerken en materialen

Semicorex biedt een reeks basismateriaalopties voor de vacuümbevel, waardoor aanpassing mogelijk is op basis van specifieke toepassingsvereisten:

Basismaterialen:

• SUS430: Een roestvrijstalen basismateriaal dat bekend staat om zijn sterkte en corrosieweerstand, waardoor uitstekende mechanische stabiliteit wordt geboden.
• Aluminium legering 6061: Lichtgewicht en toch sterk, deze aluminiumbasis biedt een hoge corrosieweerstand en is ideaal voor toepassingen waarbij gewicht een zorg is.
• Alumina Ceramic (99% aluminiumoxide): biedt een hoge thermische stabiliteit en slijtvastheid. Het is een uitstekende keuze voor zeer nauwkeurige omgevingen waar thermische weerstand van cruciaal belang is.
• Graniet: bekend om zijn stijfheid en superieure trillingsdempels, biedt graniet een uitstekende stabiliteit en precisie tijdens het afhandelen van wafers.
• Siliconencarbide (SIC) keramiek: biedt een hoge hardheid, thermische geleidbaarheid en weerstand tegen chemische corrosie. Het is perfect voor hoge temperatuur en agressieve omgevingen.

Keramische platen:

Alumina (Al₂o₃): aluminiumoxide -platen staan ​​bekend om hun hoge elektrische isolatie -eigenschappen, slijtvastheid en stabiliteit met hoge temperatuur. Ze zijn geschikt voor omgevingen waar minimale besmetting en hoge prestaties cruciaal zijn.

Siliconencarbide (SIC): SIC -keramische platen bieden uitzonderlijke hardheid, hoge thermische geleidbaarheid en stabiliteit bij verhoogde temperaturen, waardoor ze ideaal zijn voor geavanceerde waferafhandelingsprocessen in de productie van halfgeleiders.

Flatness Precision and Material Selectie

De vlakheid van het oppervlak van de klootzak is een cruciale factor bij het waarborgen van de juiste afhandeling en optimale procesresultaten. De materiaalkeuze heeft invloed op de vlakheids precisie, evenals het totale gewicht en de thermische eigenschappen van de vacuümbevel.

Vlakheid precisie:

Aluminium legering 6061: biedt een uitstekende vlakheid met precisie, waardoor het een populaire keuze is voor minder veeleisende waferafhandelingstaken.

SUS430: Tijdens het aanbieden van solide mechanische stabiliteit heeft SUS430 een iets lagere vlakheidsprecisie dan aluminiumlegering.

Alumina Ceramic (99% aluminiumoxide): biedt de beste vlakheids precisie vanwege de hoge dimensionale stabiliteit onder hoge temperaturen en mechanische stress.

Graniet: graniet bekend om zijn stabiliteit, biedt graniet nauwkeurigheid, met name in trillingsgevoelige omgevingen.

Keramiek voor siliciumcarbide: biedt uitstekende vlakheidsprecisie en is ideaal voor het hanteren van wafers met een zeer nauwkeurige in toepassingen op hoge temperatuur.

Gewichtsoverwegingen

Het gewicht van de vacuümbevel is een andere belangrijke factor, met name voor toepassingen waar het gemak van de chuck hantering en manipulatie een belangrijke overweging is.