MOCVD satelliethouderplaat

Semicorex MOCVD satelliethouderplaat is een uitstekende drager ontworpen voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De hoge zuiverheid, uitstekende corrosieweerstand en het zelfs thermische profiel maken het een uitstekende keuze voor wie op zoek is naar een drager die bestand is tegen de eisen van het halfgeleiderproductieproces. Wij streven ernaar onze klanten hoogwaardige producten te bieden die aan hun specifieke eisen voldoen. Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze MOCVD-satelliethouderplaat en hoe wij u kunnen helpen met uw halfgeleiderproductiebehoeften.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex MOCVD Satellite Holder Plate is een hoogwaardige drager ontworpen voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. Ons product is gecoat met een zeer zuiver siliciumcarbide op grafiet, waardoor het zeer goed bestand is tegen oxidatie bij hoge temperaturen tot 1600°C. Het CVD chemische dampafzettingsproces dat bij de productie wordt gebruikt, zorgt voor een hoge zuiverheid en uitstekende corrosieweerstand, waardoor het ideaal is voor gebruik in cleanroomomgevingen.
De kenmerken van onze MOCVD-satelliethouderplaat zijn indrukwekkend. Het dichte oppervlak en de fijne deeltjes verbeteren de corrosieweerstand, waardoor het bestand is tegen zuur, alkali, zout en organische reagentia. Deze drager is zeer stabiel, zelfs in extreme omgevingen, waardoor het een uitstekende keuze is voor wie op zoek is naar een drager die bestand is tegen de eisen van de halfgeleiderindustrie.

Parameters van MOCVD satelliethouderplaat

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur	FCC β-fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	urn	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmtecapaciteit	J kg-1 K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Flexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300℃)	430
Thermische uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Thermische geleidbaarheid	(W/mK)	300

Kenmerken van SiC-gecoate grafietsusceptor voor MOCVD

- Voorkom loslaten en zorg voor een coating op alle oppervlakken
Oxidatieweerstand bij hoge temperaturen: Stabiel bij hoge temperaturen tot 1600°C
Hoge zuiverheid: gemaakt door CVD chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur.
Corrosiebestendigheid: hoge hardheid, dicht oppervlak en fijne deeltjes.
Corrosiebestendigheid: zuur, alkali, zout en organische reagentia.
- Bereik het beste laminaire gasstroompatroon
- Garandeer de gelijkmatigheid van het thermische profiel
- Voorkom elke besmetting of verspreiding van onzuiverheden