Momenteel maken veel halfgeleiderapparaten gebruik van mesa-apparaatstructuren, die voornamelijk worden gecreëerd door twee soorten etsen: nat etsen en droog etsen. Hoewel het eenvoudige en snelle natte etsen een belangrijke rol speelt bij de vervaardiging van halfgeleiderapparaten, heeft het inhere......
Lees verderSiliciumcarbide (SiC) vermogensapparaten zijn halfgeleiderapparaten gemaakt van siliciumcarbidematerialen, die voornamelijk worden gebruikt in elektronische toepassingen met hoge frequentie, hoge temperatuur, hoge spanning en hoog vermogen. Vergeleken met traditionele op silicium (Si) gebaseerde ene......
Lees verderAls halfgeleidermateriaal van de derde generatie wordt galliumnitride vaak vergeleken met siliciumcarbide. Galliumnitride demonstreert nog steeds zijn superioriteit met zijn grote bandafstand, hoge doorslagspanning, hoge thermische geleidbaarheid, hoge verzadigde elektronendriftsnelheid en sterke st......
Lees verderGaN-materialen kregen bekendheid na de toekenning van de Nobelprijs voor natuurkunde in 2014 voor blauwe LED's. Aanvankelijk kwamen ze onder de aandacht van het publiek via snellaadtoepassingen in consumentenelektronica, maar op GaN gebaseerde eindversterkers en RF-apparaten zijn ook stilletjes naar......
Lees verderOp het gebied van halfgeleidertechnologie en micro-elektronica zijn de concepten van substraten en epitaxie van groot belang. Ze spelen een cruciale rol in het productieproces van halfgeleiderapparaten. Dit artikel gaat dieper in op de verschillen tussen halfgeleidersubstraten en epitaxie, en behand......
Lees verder