Producten

Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor is een zorgvuldig ontworpen component die op maat is gemaakt voor geavanceerde halfgeleiderproductieprocessen, met name epitaxie. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken de meeste Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Semicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite is een gespecialiseerd onderdeel dat is ontworpen voor gebruik in het epitaxieproces, met name bij het dragen van wafers. Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over hoe wij u kunnen helpen met uw halfgeleiderwafelverwerkingsbehoeften.

Semicorex MOCVD SiC-gecoate grafietsusceptor is een geavanceerd en gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in het Metal-Organic Chemical Vapour Deposition-proces, een cruciale techniek bij de productie van halfgeleiders, opto-elektronische apparaten en andere geavanceerde materialen. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Semicorex TaC Coated Wafer Susceptor is een cruciaal onderdeel dat wordt gebruikt in Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) ovens voor epitaxiale (epi) verwerking van halfgeleiders. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Semicorex Susceptor met raster is een gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in het epitaxiale groeiproces van halfgeleiderwafels. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

De geavanceerde TaC-gecoate grafietsusceptor van Semicorex, een revolutionair onderdeel dat is ontworpen om uw wafer-epitaxiale proces naar nieuwe hoogten van efficiëntie en precisie te tillen. Semicorex TaC Coated Graphite Susceptor is vervaardigd met ongeëvenaarde expertise en maakt gebruik van de modernste technologie en is ontworpen om te voldoen aan de veeleisende eisen van de halfgeleiderproductie.