Als professionele fabrikant willen wij u graag halfgeleidercomponenten leveren. Semicorex is uw partner voor verbetering in halfgeleiderverwerking. Onze siliciumcarbidecoatings zijn compact, bestand tegen hoge temperaturen en chemicaliën en worden vaak gebruikt in de hele cyclus van de productie van halfgeleiders, inclusief de verwerking van halfgeleiderwafels en -wafels en de fabricage van halfgeleiders.
Zeer zuivere SiC-gecoate componenten zijn cruciaal voor processen in de halfgeleider. Ons aanbod varieert van grafietverbruiksartikelen voor hete zones met kristalgroei (verwarmers, kroeskroezen, isolatie) tot zeer nauwkeurige grafietcomponenten voor waferverwerkingsapparatuur, zoals met siliciumcarbide gecoate grafietkroezen voor Epitaxy of MOCVD.
Voordelen voor halfgeleiderprocessen
De fases van de afzetting van dunne films, zoals epitaxie of MOCVD, of verwerking van wafers, zoals etsen of ionenimplantatie, moeten hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging ondergaan. Semicorex levert een zeer zuivere siliciumcarbide (SiC) gecoate grafietconstructie die superieure hittebestendigheid en duurzame chemische bestendigheid biedt, zelfs thermische uniformiteit voor een consistente dikte en weerstand van de epi-laag.
Kamerdeksels →
Kamerdeksels die worden gebruikt bij de kristalgroei en verwerking van wafels moeten hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging doorstaan.
Eindeffector →
Eindeffector is de hand van de robot die halfgeleiderwafels beweegt tussen posities in waferverwerkingsapparatuur en dragers.
Inlaatringen →
SiC-gecoate gasinlaatring van MOCVD-apparatuur Verbindingsgroei heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, die een grote stabiliteit heeft in extreme omgevingen.
Scherpstelring →
Semicorex levert de focusring met siliciumcarbidecoating en is zeer stabiel voor RTA, RTP of agressieve chemische reiniging.
Wafer Chuck →
De ultraplatte keramische vacuümwafelhouders van Semicorex zijn voorzien van een zeer zuivere SiC-coating tijdens het wafelverwerkingsproces.
Semicorex Silicon Pedestal Boat is een 9N ultrazuivere waferdrager, ontworpen voor nauwkeurige en stabiele waferondersteuning bij oxidatie-, diffusie- en LPCVD-processen bij hoge temperaturen. Kies Semicorex voor ongeëvenaarde materiaalzuiverheid, precisiebewerking en bewezen betrouwbaarheid*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Silicon Injector is een buisvormig onderdeel met ultrahoge zuiverheid, ontworpen voor nauwkeurige en contaminatievrije gastoevoer in LPCVD-polysiliciumafzettingsprocessen. Kies Semicorex voor toonaangevende zuiverheid, precisiebewerking en bewezen betrouwbaarheid.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Silicon Wafer Boat is een zeer zuivere drager ontworpen voor halfgeleiderovens op hoge temperatuur, die wafers ondersteunt tijdens oxidatie- en reductieprocessen bij 1200–1250 °C. Semicorex biedt superieure producten, ultraschone prestaties en betrouwbare resultaten die de opbrengst van het apparaat direct verbeteren.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Silicon Shield Ring is een siliciumcomponent met een hoge zuiverheidsgraad, ontwikkeld voor geavanceerde plasma-etssystemen, en dient zowel als beschermend schild als als hulpelektrode. Semicorex zorgt voor ultraschone prestaties, processtabiliteit en superieure etsresultaten met nauwkeurig ontworpen halfgeleidercomponenten.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Ceramic Paddle is een zeer zuivere cantilevercomponent ontworpen voor halfgeleiderovens met hoge temperatuur, voornamelijk gebruikt in oxidatie- en diffusieprocessen. Kiezen voor Semicorex betekent toegang krijgen tot geavanceerde keramische oplossingen die uitzonderlijke stabiliteit, netheid en duurzaamheid garanderen voor kritische waferbehandelingstoepassingen.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC-gecoate Halfmoon-onderdelen zijn nauwkeurig ontworpen componenten die zijn ontworpen als essentiële elementen van epitaxiale apparatuur, waarbij twee halvemaanvormige secties samen een compleet kernsamenstel vormen. Kiezen voor Semicorex betekent het veiligstellen van betrouwbare, zeer zuivere en duurzame oplossingen die stabiele waferondersteuning en efficiënte warmtegeleiding garanderen voor geavanceerde halfgeleiderproductie.*
Lees verderStuur onderzoek