Susceptors voor MOCVD-reactoren

De susceptors voor MOCVD-reactoren van Semicorex zijn hoogwaardige producten die in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt voor verschillende toepassingen, zoals siliciumcarbidelagen en epitaxie-halfgeleiders. Ons product is verkrijgbaar in tandwiel- of ringvorm en is ontworpen om oxidatieweerstand bij hoge temperaturen te bereiken, waardoor het stabiel is bij temperaturen tot 1600°C.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Onze Susceptors voor MOCVD-reactoren worden gemaakt door middel van CVD-chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden bij hoge temperaturen, waardoor een hoge zuiverheid wordt gegarandeerd. Het oppervlak van het product is dicht, met fijne deeltjes en hoge hardheid, waardoor het corrosiebestendig is tegen zuur, alkali, zout en organische reagentia.
Onze susceptors voor MOCVD-reactoren zijn ontworpen om coating op alle oppervlakken te garanderen, loslaten te voorkomen en het beste laminaire gasstroompatroon te bereiken. Het product garandeert een gelijkmatig thermisch profiel en voorkomt eventuele vervuiling of verspreiding van onzuiverheden tijdens het proces, waardoor resultaten van hoge kwaliteit worden gegarandeerd.
Bij Semicorex geven we prioriteit aan klanttevredenheid en bieden we kosteneffectieve oplossingen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner te worden, die hoogwaardige producten en een uitzonderlijke klantenservice levert.

Parameters van susceptoren voor MOCVD-reactoren

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur	FCC β-fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	urn	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmtecapaciteit	J kg-1 K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Flexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300℃)	430
Thermische uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Thermische geleidbaarheid	(W/mK)	300

Kenmerken van SiC-gecoate grafietsusceptor voor MOCVD

- Voorkom loslaten en zorg voor een coating op alle oppervlakken
Oxidatieweerstand bij hoge temperaturen: Stabiel bij hoge temperaturen tot 1600°C
Hoge zuiverheid: gemaakt door CVD chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur.
Corrosiebestendigheid: hoge hardheid, dicht oppervlak en fijne deeltjes.
Corrosiebestendigheid: zuur, alkali, zout en organische reagentia.
- Bereik het beste laminaire gasstroompatroon
- Garandeer de gelijkmatigheid van het thermische profiel
- Voorkom elke besmetting of verspreiding van onzuiverheden