TaC-coatinggrafiet wordt gemaakt door het oppervlak van een zeer zuiver grafietsubstraat te coaten met een fijne laag tantaalcarbide door middel van een gepatenteerd Chemical Vapour Deposition (CVD) proces.
Tantaalcarbide (TaC) is een verbinding die bestaat uit tantaal en koolstof. Het heeft een metallische elektrische geleidbaarheid en een uitzonderlijk hoog smeltpunt, waardoor het een vuurvast keramisch materiaal is dat bekend staat om zijn sterkte, hardheid en hitte- en slijtvastheid. Het smeltpunt van Tantalum Carbides piekt op ongeveer 3880°C, afhankelijk van de zuiverheid, en heeft een van de hoogste smeltpunten onder de binaire verbindingen. Dit maakt het een aantrekkelijk alternatief wanneer hogere temperatuureisen de prestatiemogelijkheden overschrijden die worden gebruikt in epitaxiale processen van samengestelde halfgeleiders zoals MOCVD en LPE.
Materiaalgegevens van Semicorex TaC Coating
Projecten |
Parameters |
Dikte |
14,3 (g/cm³) |
Emissiviteit |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
Hardheid (HK) |
2000 |
Weerstand (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Thermische stabiliteit |
<2500℃ |
Grafiet dimensieverandering |
-10~-20um (referentiewaarde) |
Laagdikte |
≥20um typische waarde (35um±10um) |
|
|
Bovenstaande zijn typische waarden |
|
Semicorex TaC Coating Wafer Tray moet ontworpen zijn om de uitdagingen van de extreme omstandigheden in de reactiekamer, inclusief hoge temperaturen en chemisch reactieve omgevingen.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex TaC Coating Plate onderscheidt zich als een hoogwaardige component voor veeleisende epitaxiale groeiprocessen en andere productieomgevingen voor halfgeleiders. Met zijn reeks superieure eigenschappen kan het uiteindelijk de productiviteit en kosteneffectiviteit van geavanceerde halfgeleiderfabricageprocessen verbeteren.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon is een onmisbare aanwinst in de wereld van epitaxie en biedt een robuuste oplossing voor de uitdagingen die gepaard gaan met hoge temperaturen, reactieve gassen en strenge zuiverheidseisen.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex CVD TaC Coating Cover is een cruciale technologie aan het worden in de veeleisende omgevingen binnen epitaxiereactoren, gekenmerkt door hoge temperaturen, reactieve gassen en strenge zuiverheidseisen, waardoor robuuste materialen nodig zijn om consistente kristalgroei te garanderen en ongewenste reacties te voorkomen.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex TaC Coating Guide Ring fungeert als een essentieel onderdeel binnen apparatuur voor metaal-organische chemische dampafzetting (MOCVD), waardoor de nauwkeurige en stabiele levering van precursorgassen tijdens het epitaxiale groeiproces wordt gegarandeerd. De TaC Coating Guide Ring vertegenwoordigt een reeks eigenschappen die hem ideaal maken om de extreme omstandigheden in de MOCVD-reactorkamer te weerstaan.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex TaC Coating Wafer Chuck is het toppunt van innovatie in het halfgeleider-epitaxieproces, een cruciale fase in de productie van halfgeleiders. Met onze toewijding aan het leveren van producten van topkwaliteit tegen concurrerende prijzen, zijn we klaar om uw langetermijnpartner in China te zijn.*
Lees verderStuur onderzoek