Waferdragers met SiC-coating

De Semicorex Wafer Carriers met SiC-coating vertonen uitstekende thermische stabiliteit en geleidbaarheid, essentieel voor het handhaven van consistente temperaturen tijdens chemische dampafzettingsprocessen (CVD). Dit zorgt voor een uniforme warmteverdeling over het substraat, wat van cruciaal belang is voor het bereiken van hoogwaardige dunne film- en coatingeigenschappen.

De Wafer Carriers met SiC-coating worden vervaardigd volgens strenge normen, waardoor een uniforme dikte en gladheid van het oppervlak wordt gegarandeerd. Deze precisie is essentieel voor het bereiken van consistente depositiesnelheden en filmeigenschappen over meerdere wafers.

De SiC-coating fungeert als een ondoordringbare barrière en voorkomt de diffusie van onzuiverheden van de susceptor naar de wafer. Dit minimaliseert het risico op besmetting, wat van cruciaal belang is voor de productie van halfgeleiderapparaten met een hoge zuiverheid. Hun duurzaamheid van de Semicorex Wafer Carriers met SiC-coating vermindert de frequentie van vervanging van de susceptor, wat leidt tot lagere onderhoudskosten en minimale stilstand bij de productie van halfgeleiders.

De Semicorex Wafer Carriers met SiC-coating kunnen worden aangepast om te voldoen aan specifieke procesvereisten, inclusief variaties in grootte, vorm en coatingdikte. Deze flexibiliteit maakt optimalisatie van de susceptor mogelijk om te voldoen aan de unieke eisen van verschillende halfgeleiderfabricageprocessen. Aanpassingsopties maken de ontwikkeling mogelijk van susceptorontwerpen die op maat zijn gemaakt voor gespecialiseerde toepassingen, zoals productie in grote volumes of onderzoek en ontwikkeling, waardoor optimale prestaties voor specifieke gebruikssituaties worden gegarandeerd.